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隨著研究我國對于半導體、光電信息技術的飛速經濟發展，研發提純凈化能力水平高、耐高壓、使用可以方便、投資少、易推廣的對N2、H2、He、Ar、O2、NO氣體配制用高壓提純技術及裝置尤為具有重要。今天我們就為大家比較簡單分析介紹以下幾種高純氣體的提純技術！
氫氣、氦氣提純技術
填充兩類低溫度，精心設計的熱交換，吸附在低溫下的多孔吸附劑凈化裝置中，可以有效H2，他除去雜質，高達純度99.9999％，由于非常惡劣的條件下，操作員必須經過嚴格的培訓和指導，否則容易發生意外。 2006年單位在氫氣凈化，因為具有許多隱患，例如作為脫氧劑，超過原材料的氧濃度的失敗巧合，純化處理裝置是沒有足夠的時間和其他因素的影響，氣體在低溫下分解凈化，幸好沒有造成安全。由于這種方法能夠有效地在N2，CO，CH4等除去H2，也可以擴展到H2實施例的大規模純化，這樣的方法是一個重要的低溫法生產的高純度H2。
氮氣提純技術
采用一種高效的脫氧反應催化劑，利用以及脫氧處理催化劑的氧化可以還原一個特點，脫除N2中的痕量O2，脫氧在室溫下進行，催化劑失活后通氫還原，還原環境溫度為350-450℃，其特點是有一定的水蒸汽壓力排出。然后用自己大量的N2吹洗或抽空與通氮相結合的方式將H2吹凈。經過研究高壓條件下脫氧器脫氧，產品瓶的氧含量可小于0.3PPM（V/V），該凈化器的特點耐高壓，非常具有適于不同氣體的配制，脫氧方法效果更加明顯，脫氧容量大，催化劑通過使用工作壽命長，實驗室管理所用此技術發展已有生活多年，已逐步向大規模氮提純系統方面得到推廣，效果能夠較好。
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